مهندسین مشاور طرح و تحقیقات آب و فاضلاب اصفهان مجله آب و فاضلاب 1024-5936 28 5 2017 11 22 Efficiency of Advanced H2O2/ZnO Oxidation Process in Ceftriaxone Antibiotic Removal from Aqueous Solutions بررسی کارایی فرایند اکسیداسیون پیشرفتهH2O2/ZnO در حذف آنتی‌بیوتیک سفتریاکسون از محیط‌های آبی 39 47 45407 10.22093/wwj.2017.45407 FA مریم نوروزی چلچه کارشناس ارشد مهندسی بهداشت محیط، دپارتمان مهندسی بهداشت محیط، دانشکده بهداشت، دانشگاه علوم پزشکی شهرکرد، شهرکرد، ایران عبدالمجید فدایی استادیار مهندسی بهداشت محیط، دپارتمان مهندسی بهداشت محیط، دانشکده بهداشت، دانشگاه علوم پزشکی شهرکرد، شهرکرد، ایران فاضل محمدی مقدم استادیار مهندسی بهداشت محیط، دپارتمان مهندسی بهداشت محیط، دانشکده بهداشت، دانشگاه علوم پزشکی شهرکرد، شهرکرد، ایران گشتاسب مردانی کارشناس ارشد مهندسی بهداشت محیط، کارمند مرکز تحقیقات گیاهان دارویی و سلولی مولکولی دانشگاه علوم پزشکی شهرکرد، شهرکرد Journal Article 2016 01 12 A major concern about pharmaceutical pollution is the presence of antibiotics in water resources through their release into sewers where they cause bacterial resistance and enhanced drug-resistance in human-borne pathogens and growing microbial populations in the environment. The objective of this study was to investigate the efficiency of  the advanced H₂O₂/ZnO oxidation process in removing ceftriaxone from aqueous solutions. For this purpose, an experimental study was conducted in which the SEM, XRD, and TEM techniques were employed to determine the size of Zinc oxide nano-particles. Additionally, the oxidation process parameters of pH (3-11), molar ratio of H₂O₂/ZnO (1.5-3), initial concentration of ceftriaxone (5–15 mg/L), and contact time (30-90 min) were investigated. Teh data thus obntained were subjected top statistical analysis using the SPSS (ANOVA test). XRD results revealeda hexagonal crystal structure for the nano-ZnO. TEM images confirmed the spherical shape of the nanoparticles. Finally, SEM images revealed that the Zn nanoparticles used in this study were less than 30 nanometers in diameter. Based on the results, an optimum pH of 11, a contact time of 90 minutes, and a H₂O₂/ZnO molar ratio equal to 1.5 were the optimum conditions to achieve a ceftriaxone removal efficiency of 92%. The advance H₂O₂/ZnO oxidation process may thus be claimed to be highly capable of removing ceftriaxone from aqueous solutions. <strong>از نگرانی‌های اصلی آلودگی‌های دارویی حضور آنتی‌بیوتیک‌ها در منابع آبی و فاضلاب است که سبب مقاومت میکربی و افزایش مقاومت دارویی در انسان و جمعیت میکروب‌های بیماریزای محیط زیست می‌شود. هدف از این مطالعه بررسی کارایی فرایند اکسیداسیون پیشرفته</strong><strong> (H₂O₂/ZnO)</strong><strong> در حذف آنتی‌بیوتیک سفتریاکسون از محیط‌های آبی می‌باشد. این مطالعه به روش تجربی انجام گرفت. اندازه نانو ذره اکسید روی با استفاده از روش‌های </strong><strong>SEM</strong><strong>، </strong><strong>XRD</strong><strong> و</strong><strong>TEM </strong><strong> آنالیز شد. پارامترهای مؤثر بر فرایند اکسیداسیون از جمله</strong><strong> pH </strong><strong>(3، 7 و 11)، نسبت مولی </strong><strong>H₂O₂/ZnO</strong><strong> (1، 5/1 و 3)، غلظت اولیه سفتریاکسون (5، 10 و 15 میلی‌گرم در لیتر) و زمان تماس (30، 60 و 90 دقیقه) بررسی شد. در این مطالعه از روش آنالیز آماری</strong><strong>SPSS </strong><strong> (آزمون</strong><strong>ANOVA</strong><strong>) استفاده شد. یافته‌های حاصل از </strong><strong>XRD </strong><strong> ساختار کریستالی هگزاگونال نانو ذرات اکسید روی را نشان داد، تصویر</strong><strong> TEM </strong><strong>کروی بودن این نانو ذرات را تأیید کرد و نتایج حاصل از تصویر</strong><strong> SEM </strong><strong>نشان داد که اندازه نانو ذره روی در این مطالعه کمتر از 30 نانومتر است. نتایج نشان داد که در</strong><strong>pH </strong><strong> بهینه برابر با 11 و زمان تماس 90 دقیقه و نسبت مولی</strong><strong> H₂O₂/ZnO </strong><strong>برابر 5/1، کارایی حذف آنتی‌بیوتیک سفتریاکسون 92 درصد می‌باشد</strong><strong>.</strong><strong> با توجه به یافته‌های این تحقیق فرایند اکسیداسیون پیشرفته </strong><strong>H₂O₂/ZnO</strong><strong> از قدرت بالایی در حذف آنتی‌بیوتیک سفتریاکسون از محلول‌های آبی برخوردار است.</strong> https://www.wwjournal.ir/article_45407_f6b3231ed2f02817af859e83a272d419.pdf