@article { author = {Noroozi cholcheh, Maryam and Fadaei, Abdolmajid and Mohammadi-Moghadam, Fazel and Mardani, Goshtasb}, title = {Efficiency of Advanced H2O2/ZnO Oxidation Process in Ceftriaxone Antibiotic Removal from Aqueous Solutions}, journal = {Journal of Water and Wastewater; Ab va Fazilab ( in persian )}, volume = {28}, number = {5}, pages = {39-47}, year = {2017}, publisher = {Water and Wastewater Consulting Engineers}, issn = {1024-5936}, eissn = {2383-0905}, doi = {10.22093/wwj.2017.45407}, abstract = {A major concern about pharmaceutical pollution is the presence of antibiotics in water resources through their release into sewers where they cause bacterial resistance and enhanced drug-resistance in human-borne pathogens and growing microbial populations in the environment. The objective of this study was to investigate the efficiency of  the advanced H2O2/ZnO oxidation process in removing ceftriaxone from aqueous solutions. For this purpose, an experimental study was conducted in which the SEM, XRD, and TEM techniques were employed to determine the size of Zinc oxide nano-particles. Additionally, the oxidation process parameters of pH (3-11), molar ratio of H2O2/ZnO (1.5-3), initial concentration of ceftriaxone (5–15 mg/L), and contact time (30-90 min) were investigated. Teh data thus obntained were subjected top statistical analysis using the SPSS (ANOVA test). XRD results revealeda hexagonal crystal structure for the nano-ZnO. TEM images confirmed the spherical shape of the nanoparticles. Finally, SEM images revealed that the Zn nanoparticles used in this study were less than 30 nanometers in diameter. Based on the results, an optimum pH of 11, a contact time of 90 minutes, and a H2O2/ZnO molar ratio equal to 1.5 were the optimum conditions to achieve a ceftriaxone removal efficiency of 92%. The advance H2O2/ZnO oxidation process may thus be claimed to be highly capable of removing ceftriaxone from aqueous solutions.}, keywords = {Advance Oxidation Processes,ZnO,Antibiotic,Ceftriaxone,Hydrogen peroxide}, title_fa = {بررسی کارایی فرایند اکسیداسیون پیشرفتهH2O2/ZnO در حذف آنتی‌بیوتیک سفتریاکسون از محیط‌های آبی}, abstract_fa = {از نگرانی‌های اصلی آلودگی‌های دارویی حضور آنتی‌بیوتیک‌ها در منابع آبی و فاضلاب است که سبب مقاومت میکربی و افزایش مقاومت دارویی در انسان و جمعیت میکروب‌های بیماریزای محیط زیست می‌شود. هدف از این مطالعه بررسی کارایی فرایند اکسیداسیون پیشرفته (H2O2/ZnO) در حذف آنتی‌بیوتیک سفتریاکسون از محیط‌های آبی می‌باشد. این مطالعه به روش تجربی انجام گرفت. اندازه نانو ذره اکسید روی با استفاده از روش‌های SEM، XRD وTEM  آنالیز شد. پارامترهای مؤثر بر فرایند اکسیداسیون از جمله pH (3، 7 و 11)، نسبت مولی H2O2/ZnO (1، 5/1 و 3)، غلظت اولیه سفتریاکسون (5، 10 و 15 میلی‌گرم در لیتر) و زمان تماس (30، 60 و 90 دقیقه) بررسی شد. در این مطالعه از روش آنالیز آماریSPSS  (آزمونANOVA) استفاده شد. یافته‌های حاصل از XRD  ساختار کریستالی هگزاگونال نانو ذرات اکسید روی را نشان داد، تصویر TEM کروی بودن این نانو ذرات را تأیید کرد و نتایج حاصل از تصویر SEM نشان داد که اندازه نانو ذره روی در این مطالعه کمتر از 30 نانومتر است. نتایج نشان داد که درpH  بهینه برابر با 11 و زمان تماس 90 دقیقه و نسبت مولی H2O2/ZnO برابر 5/1، کارایی حذف آنتی‌بیوتیک سفتریاکسون 92 درصد می‌باشد. با توجه به یافته‌های این تحقیق فرایند اکسیداسیون پیشرفته H2O2/ZnO از قدرت بالایی در حذف آنتی‌بیوتیک سفتریاکسون از محلول‌های آبی برخوردار است.}, keywords_fa = {فرایند اکسیداسیون پیشرفته,نانو ذره اکسید روی,آنتی‌بیوتیک,سفتریاکسون,پراکسید هیدروژن}, url = {https://www.wwjournal.ir/article_45407.html}, eprint = {https://www.wwjournal.ir/article_45407_532b4cff2859e1de099731c917d4bb24.pdf} }