@article { author = {Jamshidi, Naser and Torabian, Ali and Azimi, AliAkbar and Nabi Bidhendi, Gholam Reza and Jafarzadeh, Mohamad Taghi}, title = {Investigation of Phenol Removal in Aqueous Solutions Using Advanced Photochemical Oxidation (APO)}, journal = {Journal of Water and Wastewater; Ab va Fazilab ( in persian )}, volume = {20}, number = {4}, pages = {24-29}, year = {2010}, publisher = {Water and Wastewater Consulting Engineers}, issn = {1024-5936}, eissn = {2383-0905}, doi = {}, abstract = {Most organic compounds are resistant to conven­tional chemical and biological treatments. For this reason, other methods are being studied as alter­natives to the biological and classical physico-chemical pro­cesses. In this study, advanced photochemical oxidation (APO) processes (UV, UV/H2O2, UV/H2O2/Fe(II), andUV/H2O2/Fe(III)) were investigated in lab-scale experiments for the degradation of phenol in an aqueous solution. A medium-pressure 300 watt (UV-C) mercury ultraviolet lamp was used as the radiation source and H2O2 30% as the oxidant. Phenol (initial concentration= 0.5 mmol/L) was selected as the model due to its high use and application. Some important parameters such as pH, H2O2 input concentration, iron catalyst concentration, the type of iron salt, and duration of UV radiation were studied based on the standard methods. The results showed that the Photo-Fenton process was the most effective treatment under acidic conditions producing a higher rate of phenol degradation over a very short radiation time. The process accelerated the oxidation rate by 4-5 times the rate of the UV/H2O2 process. The optimum conditions were obtained at a pH value of 3, with a molar ratio of 11.61 for H2O2/Phenol and molar ratios of 0.083 and 0.067for Iron/H2O2 in the UV/H2O2/Fe (II) and the UV/H2O2/Fe (III) systems, respectively.}, keywords = {Advanced Photochemical Oxidation (APO),Photo-Fenton,Phenol,Aqueous solution}, title_fa = {بررسی حذف فنل از محلول آبی با استفاده از فناوری‌های اکسیداسیون فتوشیمیایی پیشرفته}, abstract_fa = {اکثر ترکیبات آلی نسبت به تصفیه‌های شیمیایی و بیولوژیکی متداول مقاوم هستند. بنابراین روشهای دیگری به‌عنوان جایگزین فرایندهای فیزیکی شیمیایی و بیولوژیکی کلاسیک مورد مطالعه و تحقیق قرار گرفته‌اند. در این تحقیق، فناوری‌های اکسیداسیون فتوشیمیایی پیشرفته شاملUV/H2O2/Fe/(III)، UV/H2O2/Fe(II)، UV/H2O2 و UV برای حذف فنل در محلول آبی در مقیاس آزمایشگاهی مورد بررسی و آزمایش قرار گرفت. از یک لامپ فرابنفش جیوه‌ای فشار متوسط 300 وات به‌عنوان منبع تابش و از پراکسید هیدروژن 30 درصد به‌عنوان ماده اکسید کننده و از فنل با غلظت اولیه 0/5میلی مول در لیتر به‌دلیل کاربرد و مصرف زیاد به‌عنوان مدل استفاده گردید. برای بررسی عوامل مؤثر مانند pH، غلظت پراکسیدهیدروژن، غلظت و نوع نمک آهن و زمان تابش نور UV، آزمایش‌ها بر اساس روشهای استاندارد، آنالیز گردیدند. نتایج آزمایش‌ها نشان داد فرایند فتوفنتون مؤثرترین فرایند تصفیه تحت شرایط اسیدی بوده و دارای سرعت بیشتر تصفیه فنل در زمان تابش خیلی کم است. سرعت اکسیداسیون در این فرایند 4 تا 5 بار بیشتر از فرآیند UV/H2O2 می‌باشد. شرایط بهینه برای فرایند فتوفنتون، مقدار pH برابر 3، نسبت مولی H2O2/Phenol برابر 11/61 و نسبت مو لی Iron/H2O2 برای سیستم‌های UV/H2O2/Fe(II) و UV/H2O2/Fe/(III) به‌ترتیب0/083 و 0/067 به‌دست آمد. }, keywords_fa = {اکسیداسیون فتوشیمیایی پیشرفته,فتوفنتون,فنل,محلول آبی}, url = {https://www.wwjournal.ir/article_1624.html}, eprint = {https://www.wwjournal.ir/article_1624_8b3ab7ce645479135d2eff8abab0105c.pdf} }